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SMT鋼網(wǎng)清洗常見的三種方法

來源:常見問答 閱讀量:47 發(fā)表時間:2021-12-21 11:58:26 標簽: SMT鋼網(wǎng)清洗機 SMT鋼網(wǎng)清洗機廠家

導讀

目前,SMT鋼網(wǎng)清洗常見的三種方法有:手工清洗鋼網(wǎng)、超聲波清洗鋼網(wǎng)、全氣動自動清洗鋼網(wǎng)。今天我們就與大家一起來了解下這三種鋼網(wǎng)清洗方法。第一種,手工清洗鋼網(wǎng)。通常手工清洗鋼網(wǎng)人為因素較大,清洗干凈與否取決于清洗的工人,同時清洗溶劑與人手易接觸,安全隱患系數(shù)較大,風險較高。第二種,超聲波清洗鋼網(wǎng)。超聲波...

目前,SMT鋼網(wǎng)清洗常見的三種方法有:手工清洗鋼網(wǎng)、超聲波清洗鋼網(wǎng)、全氣動自動清洗鋼網(wǎng)。今天我們就與大家一起來了解下這三種鋼網(wǎng)清洗方法。

第一種,手工清洗鋼網(wǎng)。通常手工清洗鋼網(wǎng)人為因素較大,清洗干凈與否取決于清洗的工人,同時清洗溶劑與人手易接觸,安全隱患系數(shù)較大,風險較高。

第二種,超聲波清洗鋼網(wǎng)。超聲波鋼網(wǎng)清洗機主要缺點在于:

1)溫度,隨之清潔時長和原始溫度差異大,而過高的溫度很容易損傷鋼網(wǎng)。

2)超聲波功率密度,過大更易損傷鋼板網(wǎng)。

3)超聲波強的參透力和難操縱,更易造成損傷鋼網(wǎng)。

4)由于用電,與清洗溶劑有引燃的安全隱患。

5)由于清潔時是在一個槽里,清潔下的贓物沒有被過濾,影響清潔效果。

然而全氣動鋼網(wǎng)清洗機的清洗就都沒有以上這些現(xiàn)象。

SMT鋼網(wǎng)清洗常見的三種方法

第三種,全氣動鋼網(wǎng)清洗機清洗。

下面我們以氣動鋼網(wǎng)清洗機PBT-750的特點來介紹:

全不銹鋼機體、美觀、耐磨損 、耐腐蝕,符合環(huán)保要求和標準; 

全氣動運行,不用電,不存在火災等安全隱患,已通過歐盟安規(guī)認證;

高密度等壓雙側旋轉清洗噴頭:清潔力強且不會破壞鋼網(wǎng)張力;

三級五層過濾系統(tǒng)、低排風口管設計:溶劑循環(huán)使用,耗液量低;

人性化設計:一鍵式操作及自動加排液功能,操作十分簡便;

系統(tǒng)整合全球優(yōu)質器件:確保品質優(yōu)良、性能穩(wěn)定、使用壽命長;

可更換的模塊化控制器及快插式設計,維護保養(yǎng)操作簡便。

總結:全氣動鋼網(wǎng)清洗機適用于鋼網(wǎng)、銅網(wǎng)、微孔網(wǎng)以及晶圓盤等各類網(wǎng)板的清洗;同樣也適用于線路板、夾具、刮刀等類似產(chǎn)品及器具的清洗。全氣動鋼網(wǎng)清洗機和超聲波鋼網(wǎng)清洗機有哪些優(yōu)劣勢,大家應該很清楚了。全氣動鋼網(wǎng)清洗機比超聲波更安全,清洗效果更好,自動化程度高,且不會損傷鋼網(wǎng)。

以上就是SMT鋼網(wǎng)清洗常見的三種方法的介紹,希望能給大家多一些了解或幫助。

漂洗水處理機

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本項目主要為清洗機漂洗水廢水,處理量為1T/H,其成分復雜所以在進入之前需有一個簡單的預處理,然后進入超濾系統(tǒng)進行進一步去除雜質,產(chǎn)水進入普通RO系統(tǒng),RO系統(tǒng)濃水直接進入海淡系統(tǒng)濃縮處理,其回收率在90%以上,剩余廢水委外處理

單槽超聲波清洗機

單槽超聲波清洗機

超聲波清洗機主要是通過換能器,將功率超聲頻源的聲能轉換成機械振動,通過清洗槽壁將超聲波輻射到槽子中的清洗液。本系列產(chǎn)品廣泛應用于機械、表面處理、電子、半導體、儀器儀表等領域的清洗

半導體封裝清洗機JEK-380SC

半導體封裝清洗機JEK-380SC

半導體封裝清洗機.SIP系統(tǒng)級封裝、WLP晶圓級封裝、FCCSP倒裝封裝、PANEL板級封裝等.IGBT、Mini-LED、LEAD FRAME、COMS 、 IC載板等。 獨立的雙水箱設計,可兼容水洗工藝和清洗液工藝程清洗。整機采用臺灣進口PP板制作,基于PP材料良好的抗氧化性,機器即使使用多年后,外觀與內(nèi)部依然如新機。

PCBA在線清洗機JEK-550CL

PCBA在線清洗機JEK-550CL

針對大批量、高產(chǎn)能產(chǎn)品清洗。 獨立的雙水箱設計,可兼容水洗工藝和清洗液工藝程清洗。 整機采用臺灣進口PP板制作,基于PP材料良好的抗氧化性,機器即使使用多年后,外觀與內(nèi)部依然如新機。 基于PP板的良好化學特性,機器可適應堿性清洗劑以及酸性清洗劑,對使用何種清洗劑無限制。耐酸堿性遠優(yōu)于不銹鋼制作的清洗機。 所有槽體底部均為三道加強焊接,確保無滲漏。

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半導體清洗設備,國產(chǎn)設備步入高速成長期

目前,隨著半導體芯片工藝技術的發(fā)展,工藝技術節(jié)點進入 28 納米、14 納米等更先進等級,隨著工藝流程的延長且越趨復雜,每個晶片在整個制造過程中需要甚至超過 200 道清洗步驟,晶圓清洗變得更加復雜、重要及富有挑戰(zhàn)性;清洗設備及工藝也必須推陳出新,使用新的物理和化學原理,在滿足使用者的工藝需求條件下,兼顧降低晶圓清洗成本和環(huán)境保護。國產(chǎn)濕法工藝設備所部署的技術路線:半導體清洗設備,國產(chǎn)設備步入高速成長期槽式設備(槽數(shù)量按需配置)及單片機設備(8~12 反應腔)均可以提供 8~12 寸晶圓制造的濕法工藝設備。該類設備可以應用在先進工藝上,主要為存儲(DRAM,3D Flash)、先進邏輯產(chǎn)品以及一些特殊工藝上,例如薄片工藝、化合物半導體、金屬剝離制程等。在技術儲備上,國產(chǎn)品牌將持續(xù)投入資源開發(fā)符合高階工藝應用的設

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必能信氣相清洗機的特點與優(yōu)勢

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